O

О £ А)

' wk

CT 92-5075-99

ОТРАСЛЕВОЙ СТАНДАРТ

ШАТЫ ПЕЧАТНЫЕ
Типовые технологические процессы получения
Проводящего, рисунка

а.


2?


ї-


Ф. 1 ЦЄ-4






























. OCT 92-5075-99

. ".м' . ',у . “

Предисловие

* *)»
I РАЗРАБОТАН Научно-проиэводственнш центром автоматики и

приборостроения им. академика Н. А. Пилюгина

2 УТВЕРЖДЕН 19СБС ФГУП "ЦІИИ машиностроения

З ВВВДЕН В ДЕЙСТВИЕ информационным указателем отраслевых

ВДС, утвержденных в ІУ квартале 1999 г. 4 ВЗАМЕН ОСТ 92-5075-88 *

5 ЗАРЕПІСТРИР0ВЛН в ДОБО 4ГУП -ЦИИ машиностроения" S * *

OCT 92-5075-99

Содержание ' v

I Область применения * I

  1. Нормативные ссылки ....... >*.•«»«... I

  2. Технические требования ......... 2

  3. Типовые технологические Процессы . мн.. 14

  4. Методы контроля * 59

  5. Требования безопасности 61

Л Приложение Л Методика определения оптимального времени экспонирования СПФ .................. 62

А Приложение Б Методика выполнения операции проявления и уда­ления пленочных фоторезистов . 64

Приложение В Технологические инструкции 67

Приложение Г Рекомендации по дополнительной стабилизации регенерированного метилхлороформа марки “А" .... 82

Приложение Д Рекомендации по дополнительной стабилизации регенерированного метилхлороформа марки "Б" .... 84

Приложение Е Методика оценки растекания трафаретной краски 86

Приложение X Методика выполнения операции нанесения краски для трафаретной печати 88

Приложение И Проверка чистоты отмывки ПП и заготовок ........ 90 Приложение К Совместимость растворов и резистов при травлении меди .91

Приложение Д Величина коэффициента травления в зависимости от состава раствора м резиста ........ 92

Приложение М Методики анализа растворов 93

Приложение Н Материалы ................................ 103

Приложение П Оборудование .......... 107

Приложение Р Технологическая оснастка НО

■ Г



OCT 92-5075-99

Приложение С Определение оптимального времени травления 112

Приложение Т Методика определения концентрации аммиака в растворе для удаления фоторезистов водно- целочного проявления ...» ......114

Приложение У Методика контроля качества проявления СГЙ для односторонних й двусторонних ПП с применением красителя метилового фиолетового 116

Приложение Ф Методика определения полноты удаления органо- «, проявляемых фоторезистов с пробельных мест окси­дированных слоев многослойных ПП 117

Приложение X Виды и причины дефектов при получении проводя­чого рисунка ..... 116



«

I

I


. * - ■ ■>. •»’

Игнімпваля - /7с/CU И (У J/j/X/ Флпыдт



O

МИЙ-


CT 92-50^6.99

ОТРАСЛЕВОЙ СТАНДАРТ

1_ Ill II — -■ “ '• -пг-г-т— ~1ИПГ

ПЛАТЫ ПЕЧАТНЫЕ.

Типовые технологические процессы получения
проводящего рисунка

Дата введения 01.07,2000 г

I Область применения

Настоящий стандарт распространяется на односторонние, двусторон­ние и многослойные печатные платы (ПП) и устанавливает типовые техно­логические процессы получения защитного рельефа проводящего рисунка фотоспособом, сеткографией, травления ПП с защитой рисунка платы раз­ными типами фоторезистов и металлорезистов, а также сеткографически­ми красками и маркирования ПП.

С тандарт предназначен для разработки рабочих технологических про** цессов.

Требования настоящего стандарта являются обязательными.

  1. Нормативные ссылки , 4

В настоящем стандарте использованы ссылки на следующие стан­дарты, которые являются его основными положениями:

ГОСТ 15140-76 "Материалы лакокрасочные. Методы получения свобод­ных пленок*;

ГОСТ 23752-79 "Платы печатные. Общие технические условия";

ОСТ 92-1522-79 "Платы печатные. Способ сеткографнческой печати.

Изготовление сетчатых трафаретов. Типовой технологический процесс”;

ОСТ 92-1586-89 "Краски маркировочные. Общие требования к выбору, приготовлению и нанесению";OCT 92-5074-97 "Платы печатные. Общие требования к типовым тех­

нологическим процессам изготовления"; f

ОСТ 92-5078-99 "Платы печатные. Типовые технологические процес­сы электрохимического получения металлических покрытий";

ОСТ 92-5080-99 "Платы печатные. Типовые технологические процес­сы Механической обработки".

Нормативные документы на материалы, оборудование, технологичес­кую оснастку приведены в приложениях Н, П, Р.

  1. Технические требования

    1. Общие требования ’

      1. В ыбор способа получения проводящего рисунка ПП, в т.ч. ма сериалов-марок и типов трафаретных печатных красок, сухих пленочных фоторезистов (СП®) и растворов травления ПП для изготовления конкрет­ной платы, определяет предприятие-изготовитель в соответствии с конструктивно-технологическими характеристиками ПП с учетом требова­ний технических условий на материалы.

      2. Операции получения проводящего рисунка должны выполняться рабочими квалификации не ниже третьего разряда.

      3. Входной контроль СП®, трафаретных печатных красок произво­дят по соответствующим стандартам и техническим условиям.

      4. Сжатый воздух, используемый на всех операциях технологи­ческого процесса получения защитного рельефа, должен соответствовать группе I ГОСТ 17433.

    2. Требования к получению защитного рельефа проводящего рисун­ка фотоспособом

      1. Помещение, где производится работа с фоторезистами, долж­но быть освещено люминесцентными лампами с фильтрами, обеспечивающи­ми желтое или оранжевое освещение. В качестве фильтров используют стекло, ткань, бумагу, окрашенные в желтый или оранжевый цвет.

Н а участках нанесения, экспонирования, проявления СИ освещенность не должна превыпать 100 люкс по люксметру D-II6 по ТУ 25-04-3098. <

  1. Рўлоны СІК рекомендуется роэать по размерам заготовок ПП

  2. На заготовке Ш после подготовки поверхности н% должно быть жировых загрязнений, окислов. механических включений ц других дефектов, влияющих на целостность защитного рельефа.

Хорошо очищенная поверхность медной фольги должна удерживать пленку воды в течение I мин при наклоне заготовки под угдош 6О‘°.

Подготовка поверхности перед нанесением фоторезиста должна обеспечивать полное удаление влаги из металлизированных отверстий. Для удаления влаги в отверстиях заготовки ПП<обрабатывают в термо­шкафу при температуре (60^5) °С в течение 20 мни,

  1. Перед началом работы на установке нанесения фоторезиста и при перерыве в работе более I мин пропускают вхолостую от 200 до 300 мм фоторезиста.

  2. 'Светочувствительный слой фоторезиста в экспонированном состоянии не должен отслаиваться от подложки более, чем на 5 мм от края при отрыве полиэтилентерефталатной основы,

  3. При выполнении операции экспонирования с целью удаления жировых загрязнений протирают фотошаблоны с обеих сторон и раму для экспонирования, хлопчатобумажным томпоном, смоченным этиловым спир­том по ГОСТ 18300 один раз в смену. После высыхания на фотошаблоне не должно быть ореолов, пятен, точек, разрывов, полос.

; 3.2.6 Рабочие фотошаблон^, изготовленные на фототехнической плейке, контролируют в процессе работы через каждыебО экспонировав кий или перед выдачей в работу, в случае неиспользования рабочего фотошаблона в течение 7-ми и более дней с отметкой в паспорте.

  1. При экспонировании должны обеспечиваться:

  • равномерная освещенность в раме экспонирования в пределах паспортных данных на применяемую установку, но не менее 20000 люке по люксметру О-Пб;

температура в раме экспонирования не выше 30 °С;

®, 2ЦІ-*


I

  • пркккм фотожаблона * ««готовке и* менее 0,69*10$ Ла.

  1. Предай времени скспонироваимя подбирают вксперямеяталъ- нш путем для каддой партия и типа фоторезиста, а также при любом кактокми условий проведенки операции экспонирования: старении фото- ««блока, замене ламп установки. планки в вакуумной раме и др.

Хранят эаэкслокировакные заготовки ПП в темных ящиках ни под черным хлопчатобумажным материалом.

4т2*^4^ел*ленме-арнноіфояжкяашг-фэеорее«стов^гамг-С№>£, ■СЮ-ДС-І осуществляют в мепьпиороформе марок "А" и "Б"—еорт—

  1. При проявлении оргдяояреявляемых фотореэиетев в двумя»

мерцай установка екпа * В *—давление должно быть в ка-

маре б I от 1,4‘10$ до 1,9*10^ Па (от 1,4-до 1,9 атм), в камере У 2 от 2,3*10$ до 2,5* Ю$ Па (ое 2,3 де 2,5 атм), в каморе промывки—ат І.2Ч05 до I.S-IQ^IU (я. 1,2 да 1,5 мм).

При удалении ергамопрсявяяеімс фотереакоеов в двухкамерных уст*. шовках тила,j Л/осА/ле В * давление в камерах I ж4-

должяо быть на менее 3,5*10^ Д£~[Т,5-а»м)^—

  1. Время экспонирования фоторезистов определяют опытным цугам в соответствии с приложением А, время проявления я удаления • в соответствии с лркложекмм Б.

  2. При единичных дефектах слоя С® после операции проявле­ния производят ретуширование лажами, эмалями, красками, обеспечива­ющими стойкость защитного рельефа и электролитах и травильных раство­рах, *т т.ч.1 при иапольвовании органопраявдлемых фоторезистов тмпа- •С®*2, СПй-АС-1 рекомендуется ретушировать эмалью НЦ-П во ГОСТ 9198 или ИЦ-25 по ГОСТ 5406 инн ириской СТО,13 по ТУ Й9-02-Б68{ при ис­пользовании фоторезистов водно-щелочного проявления типа СІЙ-ВЩ-2 рекомендуется применять краску, приготовленную в соответствии с при­ложением В по В,6, или краску СТЗ-12.1-51 по ТУ 29-02-740

4

Ферм.г А4



и ли вмиль НЦ-25 по ГОСТ 5406.

  1. Время проявления и удаления фоторезиста регулируют ско­ростью движения конвейера в зависимости от толщины фоторезиста.

  2. При применении фоторезистов типа СЕЙ-ВЩ-2 и Ш-2 обра­ботку ПП производят в кислых растворах.

  3. При проявлении и удалении фоторезиста водно-щелочного проявления использует пеногасители ЭАЛ-40 пли АС-60 из расчета I мх/л с периодическим добавлением по мере ледообразования.

  4. Для увеличения химической стойкости фоторезистов заго­товки ПП с Ш-2 после проявления допускается обрабатывать в термо­шкафу при температуре (ІООІ5) °С в течение 20 мин. Заготовки ПП с СШ-ЭЦ-2 допускается обрабатывать при температуре (50-10) °С не более 40 мин.

3.-2* 19 С-целью - псддержания требуемого содержания—етабмхиааео- Г*~Г гр^яятення и удмення з рг ан? пр*1 являемых фоторезистов

регенерированные растворятся* смешивают со авеиимк в объемном осот- f -межении Іі2»

-3.2120 Допуенается-метшошореформ-марок WA* и *Б* дополнитель­но стабилизировать в-еоотвееотвии о приложениями Г и Д,

  1. С целью обеспечения полного удаления фоторезистов типа СШ-2 и Ш-АС-І е пробельных мест в последнем отсеке установок проявления и удаления растворитель должен быть бесцветным, не допус­кается также попадание, в растворитель воды из камеры прошвки.

  2. При повторном использовании для изготовления ПП загото­вок ПП, подвергавшихся операциям нанесения рисунка в отбракованных, производят подготовку поверхности заготовок перед нанесением Ш химике-механяческии способом в соответствии с таблицей 7.

  3. Подготовку поверхности слоев многослойных Ш перед на^ несением СІЙ выполняют химическим способом в соответствии с табли­цей 5 или таблицей б, поверхности двусторонних ПП и многослойных ПП

5O CT 92-5075-99

О предварительной металлизацией отверстий перед нанесением СПФ гото­вят химико-механическим способом в соответствии с таблицей 7.

3.3 Требования к получению защитного рельефа проводящего ри­сунка сеткографяея

г

  1. Трафаретные краски марок CT3.I2.I-5I по ТУ 29-02-740, ТНПФ по ТУ 29-02-889 и фотополимеризующуюся композицию ФПК-Т1Ц по ТУ 6-14-19-40.082 применяют при изготовлении ПП химическим методом.

  2. При изготовлении ПП комбинированным позитивным методом применяют гальваностойхую краску CT3.I3 по ТУ 29-02-568, при работе с електролитамм при величине pH равной от 0,5 до 9,0.

  3. Нанесение рисунка на вторую сторону заготовки производят после сушки краски, нанесенной на первую сторону.

  4. Трафаретные печатные формы изготавливают в соответствии с ОСТ 92-1522.

  5. Соответствие материалов (трафаретных красок) техническим требованиям долино быть подтверждено клеймами и паспортами отдала технического контроля предприятия-поставщика материалов.

  6. Материалы следует использоватьпгтечение срока годности, указанного заводом-изготовителем.