ния кристалла

Зйомка кристала при Cъемка кристалла при ко-

коливаннi навколо осі, лебании вокруг оси, перпен-

перпендикулярної до дикулярной к первичному

первинного монохрома- монохроматическому пуч-

тичного пучка ку

4.4.15 виэначення товщиии de Stoffdiskenbestimmung

матеріалу en definition of thickness

material

fr d[e2]finition del'[e2]pai- *

- 16 -

ДСТУ Б А.1.1-8-94

sseur d'un materiau

ru определение толщины ма-

териала

Визначення інтенсив- Измерение интенсивности

ності випромінювання, излучения, прошедшего че-

яке пройшло крізь до- рез исследуемый материал

сліджуваний матеріал

4.4.16 локальний фазовий de Lokale Phasenanalyse

аналіз en local phase analysis

fr analyse de phase locale

ru локальный фазовый анализ

Дослідження фазового Исследование фазового со-

складу в малих ділянках става в малых областях при

при використанні пер- использовании первичного

винного пучка малого пучкa малого сечения диа-

nepepiзy дiаметром 100 метром 100 мкм

мкм

4.4.17 метод порошку de Pulververfahren

en powder method

fr m[e2]thode de poudre

ru метод порошка

Вимірювання відбиття Измерение отражений мо-

монохроматичних рент- нохроматических рентге-

генівських променів від новских лучей от образца с

зразка з розмірами кри- размерами кристаллов от 5

сталів від 5 до 40 мкм до 40 мкм

4.4.18 метод дослідження при de Kleinwinkeluntersuchungsver-

малих кутах fahren

en test method with small angles

fr m[e2]thode d'[e2]tude avec *

petits angles

ru метод исследования при

малых углах

Фазовий аналіз речови- Фазовый анализ вещества

ни при кутових поворо- при угловых поворотах об-

тах зразка і детектора в разца и детектора в пределах

межах від декількох хви- от нескольких минут до гра-

лин до градусів дусов

4.4.19 стандартна речовина de Standardstoff

en standard matter

fr mat[e2]re standard *

ru стандартное вещество

Речовина, яка відтворює Вещество, дающее рентге-

рентгенограму, що неза- нограмму, не зависящую от

лежна від умов і ступеня условий и степени помола и

помолу та не схильна до не склонное к стеклообра-

склоутворення зованию

4.4.20 деформація кристалу de Kristallitdeformation

- 17 -

ДСТУ Б А.1.1-8-94

en crystallite defomation

fr d[e2]formation de lа *

cristallite

ru деформация кристаллита

Зміна параметрів еле- Изменение параметров эле-

ментарної комiрки під ментарной ячейки под дей-

дiєю мiкронапружень ствием микронапряжений

4.4.21 параметр комірки de Kammerparameter

en cellular parameter

fr param[e2]tre d'un cellule *

ru параметр ячейки

Міжплощинні відстані Межплоскостные расстоя-

для ряду ліній з відо- ния для ряда линий с извест-

мими індексами відбиття ными индексами отражений

4.4.22 максимум дифракцій- de Diffraktionspitzenmaximum

ного піка en maximum diffraction peak

fr valeur maxіmale du point

de diffraction

ru максимум дифракционного

цикла

Вимірювання інтенсив- Измерение интенсивности

ності дифракцiйного цикла дифракционного пика в точ-

в точках, розділених про- ках, разделенных промежут-

міжком 2-5, визначення ком 2-5, определение цент-

центру тяжіння ра тяжести

4.4.23 еталонна речовина de Standardsubstanz

en reference substance

fr substance [e2]talon *

ru эталонное вещество

Речовина, для якої точно Вещество, для которого точ-

відома величина парамет- но известна величина элемента-

рів елементарної комірки рной ячейки

4.4.24 коефіцієнт послаблення de Schw[a1]chungsfactor *

en weakening factor

fr facteur d'affaiblissement

ru коэффициент ослабления

Зменшення інтенсив- Ослабление интенсивности

ності рентгенівського рентгеновского пучка при

пучка при проходженні прохождении его через слой

його крізь шар речовини вещества

4.4.25 розмиття дефракційного de Diffraktionsspitzentr[u1]bung *

піка en smearing of a diffraction peak

fr an[e2]antissement d'une pointe *

de diffraction

ru размытие дифракционного пика

Сукупність факторів Совокупность факторов

(дисперсність зразка, (дисперсность образца, не-

- 18 -

ДСТУ Б А.1.1-8-94

несувора монохроматич- строгая монохроматичность из-

ність випромінювання, лучения, наличие

наявність мікронапру- микронапряжений и т.д.),

жень та ін.), які зумов- вызывающих нечеткую кон-

люють нечітку конфігу- фигурацию пиков

рацію піків

4.4.26 дифузне розсіювання de Kleinwinkelzerstreuung

під малими кутами en diffuse seattering under

small sized angles

fr dispersion diffuse [a4] *

petits angles

ru диффузное рассеивание под

малыми углами

Дифузне розсіювання, Диффузное рассеивание,

яке обумовлене неодно- обусловленное неоднород-

рідністю електронної ностью электронной плот-

густини на відстанях ности на расстояниях того

того самого порядку, же порядка, кристаллов,

кристалів, які склада- построенных из крупных

ються з великих молекул, молекул, в которых перио-

в яких періоди ідентично- ды идентичности на два по-

сті на два порядки пере- рядка превышают длину

вищують довжину хвилі волны излучения

випромінювання

4.4.27 інтенсивність розсію- de Objektzerstreungsintensit[a1]t*

вання об'єктом en diffusion intensity with an

object

fr іntensit[e2] de diffusion avec*

un objet

ru интенсивность рассеивания

объектом

Добуток числа частинок Произведение числа частиц

об'єкта, які беруть учас- об'екта, участвующих в рас-

ть у розсіюванні, на сеивании, на интенсивность

інтенсивність розсіюванн- рассеивания одной частицы

ня oднієї частинки

4.4.28 аналітична лiнiя de Analysenlinie

en аnаlytical line

fr linge analytique

ru аналитическая линия

Лiнiя мінералу, вiльна Линия минерала, свободная

від накладання і з ві- от наложений и с извест-

домим значенням вели- ным значением величины

чини міжплощинної від- межплоскостного расстоя-

стані ния

- 19 -

ДСТУ Б А.1.1-8-94

АБЕТКОВИЙ ПОКАЖЧИК УКРАЇНСЬКИХ ТЕРМІНІВ

аналіз рентгенівський фазовий кількісний ................. 4.4.2

аналіз рентгенівський фазовий якісний .................... 4.4.1

аналіз фазовий локальний ................................. 4.4.16

вибір випромінювання ..................................... 4.2.19

визначення напружень ..................................... 4.4.9

визначення товщини матеріалу ............................. 4.4.15

відхилення кута повороту блоку дефектування допустиме ... 4.2.2

детектор рентгенівського випромінювання .................. 4.3.6

детектор телевізійного типу .............................. 4.3.7

деформація кристалу ...................................... 4.4.20

джерело рентгенівського випромінювання ................... 4.3.11

дифрактометр загального призначення ...................... 4.1.2

дифрактометр рентгенівський .............................. 4.1.1

дифрактометр рентгенівськнй малокутовий .................. 4.1.4

дифрактометр рентгенівський текстурний ................... 4.1.3

діапазон аналізуючих хімічних елементів .................. 4.2.16

діапазон кутових переміщень .............................. 4.2.3

діапазон переміщення рентгенівської трубки ............... 4.2.4

діапазон повороту досліджуваного зразка .................. 4.2.10

діапазон робочих кутів гоніометричної приставки .......... 4.2.6

інтенсивність розсіювання об'єктом ....................... 4.4.27

камера рентгенівська ..................................... 4.3.5

канал рентгенівський спектрометричний .................... 4.3.1

канал рентгенівський спектрометричний сканувальний ....... 4.3.3

канал рентгенівський спектрометричний фіксований ......... 4.3.2

коефіцієнт послаблення ................................... 4.4.24

комплекс керуючий дифрактрометричний ..................... 4.3.12

комплекс рентгенівський аналітичний ...................... 4.1.7

контрастність рентгенівського дифрактометра .............. 4.2.13

кристал-аналізотор ....................................... 4.3.8

кристал-монохроматор...................................... 4.3.9

крок склнування мінімальний............................... 4.2.18

кут відбору рентгенівського випромінювання ............... 4.2.15

лінія аналітична ......................................... 4.4.28

максимум дифракційного піка .............................. 4.4.22

межа виявлення ........................................... 4.2.14

метод відношення інтенсивностей аналітичних ліній ........ 4.4.6

метод внутрішнього стандарту ............................. 4.4.8

метод додавання фази, що визначається .................... 4.4.5

метод дослiдження поверхні і тонких плівок ............... 4.4.10

метод дослідження при малих кутах ........................ 4.4.18

метод дослідження при різних температурах ................ 4.4.11

метод дослідження при різних тисках ...................... 4.4.12

метод Лауе ................,.............................. 4.4.13

метод обертання і коливання кристала ..................... 4.4.14

метод порошку ............................................ 4.4.17

метод прямого вимірювання коефіцієнта вбирання ........... 4.4.7

метод рентгеноспектрального аналізу ...................... 4.4.4

метод рентгеноструктурного аналізу ....................... 4.4.3

параметр комірки ......................................... 4.4.21

площа вхідного вікна детектора робоча .................... 4.2.11

похибка апаратурна основна ............................... 4.2.1

похибка вимірювання кута повороту ........................ 4.2.8

похибка кутового пристрою ................................ 4.2.7

- 20 -

ДСТУ Б А.1.1-8-94

приставка рентгенівська гоніометрична .................... 4.3.4

речовина еталонна ........................................ 4.4.23

речовина стандартна ...................................... 4.4.19

роздільність кутова ...................................... 4.2.9

роздільність спектральна ................................. 4.2.17

розмиття дифракційного піка .............................. 4.4.25

розсіювання під малими кутами дифузне .................... 4.4.26

спектрометр рентгенівський ............................... 4.1.5

спектрометр рентгенiвський кристал-дифракційний .......... 4.1.6

фільтр рентгенівський .................................... 4.3.10

швидкість установочна .................................... 4.2.5

швидкість лічення імпульсів на аналітичній лінії ......... 4.2.12

- 21 -

ДСТУ Б А.1.1-8-94

АБЕТКОВИЙ ПОКАЖЧИК HIMEЦbKИX TEPMIHIB

Abtastungsr[o1]ntgenspektrometerkanal .................. 4.3.3 *

Allgemeinzweckdiffraktometer............................ 4.1.2

Analysenleitungimpulsz[a1]hlungsgeschwindigkeit ........ 4.2.12 *

Analysenlinie .......................................... 4.4.28

Beanspruchungsbestimmung ............................... 4.4.9

Beharrungsgeschwindigkeit .............................. 4.2.5

Bereich der gepr[u1]ften chemischen Elemente............ 4.2.16 *

Bestimmungsphasenzusatzverfahren ....................... 4.4.5

Detektoreingangs[o1]fnungsarbeitsfl[a1]che ............. 4.2.11 *

Diffraktometersteueranlage ............................. 4.3.12

Diffraktionspitzenmaximum .............................. 4.4.22

Diffraktionspitzentr[u1]bung ........................... 4.4.25 *

Drehwinkelmessfehler ................................... 4.2.8

Fernsehdetektor......................................... 4.3.7

Fixierr[o1]htgenspektrometerkanal ...................... 4.3.2 *

Gamma-Kristallspektrometer ............................. 4.1.6

Geratefehler ........................................... 4.2.1

Innenstandardverfahren ................................. 4.4.8

Kammerparameter ........................................ 4.4.21

Kleinwinkelr[o1]ntgendiffraktometer .................... 4.1.4 *

Kleinwinkeluntersuchungsverfahren ...................... 4.4.18

Kleinwinkelzerstreuung ................................. 4.4.26

Kristallanalysator ..................................... 4.3.8

Kristallitdeformation .................................. 4.4.20

Kristallmonochromator .................................. 4.3.9

Laue Method ............................................ 4.4.13

Lokale Phasenanalyse ................................... 4.4.16

Methode der Direktmessund des Absorptionskoeffizientes . 4.4.7

Methode der Kristalldrehung und Schwingung ............. 4.4.14

Methode der Untersuchung bei Differenzdrucken .......... 4.4.12

Methode der Untersuchung bei Differenztemperatur ....... 4.4.11

Methode der Untersuchung der Oberfl[a1]che und

D[u1]nnfilme ........................................... 4.4.10 *

Methode der Verh[a1]ltnisses der Intensit[a1]t der *

Analysenlinien ......................................... 4.4.6

Mindestastungssehritt .................................. 4.2.18

Nachweisbarkeitsgrenze ................................. 4.2.14

Objektzerstreungsintensit[a1]t ......................... 4.4.27 *

Pr[u1]fk[o1]rperdrehbereich ............................ 4.2.10 *

Pr[u1]winkelberiech des metrischen Vorsatzger[a1]tes ... 4.2.6 *

Pulververfahren ........................................ 4.4.17

Qualitative R[o1]ntgenphasenanalyse .................... 4.4.1 *

Quantitative R[o1]ntgenphasenanalyse ................... 4.4.2 *

R[o1]ntgenanalysentkomplex ............................. 4.1.7 *

R[o1]ntgendiffraktometer ............................... 4.1.1 *

R[o1]ntgendiffraktometerkontrast ....................... 4.2.13 *

R[o1]ntgenfilter ....................................... 4.3.10 *

R[o1]ntgengoniometervorsatzger[a1]t .................... 4.3.4 *

R[o1]ntgenkamera ....................................... 4.3.5 *

R[o1]ntgenrohreverschiebungsbereich .................... 4.2.4 *

R[o1]ntgenspektralanalyse .............................. 4.4.4 *

R[o1]ntgenspektrometer ................................. 4.1.5 *

R[o1]ntgenspektrometerkanal ............................ 4.3.1 *

R[o1]ntgenstrahlungsdetektor............................ 4.3.6 *

R[o1]ntgenstrahlungsquelle ............................. 4.3.11 *

- 22 -

ДСТУ Б А.1.1-8-94

R[o1]ntgenstrukturanalyse .............................. 4.4.3 *

Schw[a1]chungsfaktor ................................... 4.4.24 *

Spektralaufteilung ..................................... 4.2.17

Standardstoff .......................................... 4.4.19

Standardsubstanz ....................................... 4.4.23

Stoffdiskenbestimmung .................................. 4.4.15

Strahlungsauswahl....................................... 4.2.19

Textur[o1]ntgendiffraktometer........................... 4.1.3 *

Winkelanfl[o1]sung (Winkelaufteilung) .................. 4.2.9

Winkelfehler............................................ 4.2.7

Winkelstrahlungauswahlwinkel ........................... 4.2.15

Winkelverschiebungsbereich ............................. 4.2.3

Zulassige Abweichung des Drehiwinkels des

Gleichrichtungsblockes ..................................4.2.2

- 23 -

ДСТУ Б А.1.1-8-94

AБЕТКОВИЙ ПОКАЖЧИК АНГЛІЙСЬКИХ ТЕРМІНІВ

analutical line ......................................... 4.4.28

angular bloc error ...................................... 4.2.7

angular resolution ...................................... 4.2.9

angular of extraction of the X-radiation ................ 4.2.15

cellular parameter ...................................... 4.4.21

coating rate of impujses nn analytical line.............. 4.2.12

contrast of a X-ray diffractometer....................... 4.2.13

crystal-analyser ........................................ 4.3.8

crystal diffraction X-ray spectrometer .................. 4.1.6

crystal-monochromator ................................... 4.3.9

crystallite deformation ................................. 4.4.20

definition oi thickness material......................... 4.4.15

defection limit ......................................... 4.2.14

diffractometric control complex-KYD ..................... 4.3.12

diffuse scattering under small sized angles ............. 4.4.26

diffusion intensity with an object....................... 4.4.27

direct method of measurement of the absorption

factor .................................................. 4.4.7

displacement range of a X-ray tube ...................... 4.2.4

fixed spectrometric X-ray channel ....................... 4.3.2

general puprose diffractometer........................... 4.1.2

input window working area the detector .................. 4.2.11

intensity relation method of analytical lines............ 4.4.6

local phase analysis..................................... 4.4.16

Lower's method........................................... 4.4.13

main instrumental error ................................. 4.2.1

maximum diffraction peak................................. 4.4.22

measurement erroe of a rotation angle ................... 4.2.8

method of addition of a defined phase.................... 4.4.5

method of analysis by X-ray spectrometry ................ 4.4.4

method of an interior standart........................... 4.4.8

method of crystal rotation and vibration ................ 4.4.14

method of X-ray (diffraction) analysis .................. 4.4.3

minimum step of scanning ................................ 4.2.18

powder method............................................ 4.4.17