war*"


4>'












ОСТ 92-5105-2000

ОТРАСЛЕВОЙ СТАНДАРТ

ції >11111*1 «■м*». IIH.W ііГім' тчииіііии^пия^іі—і—мтpiutmoiiii ‘ і»ч ■■■»■■•« «шмииніші*»»

• '■ V., ПЛАТЫ ПЕЧАТНЫЕ ' ' •

Общие .требования к элемантам
. ' систем базирования

/0<ар. Z^a^oe/// //?. <///&?



ttyawfMW f/7Z

.. і . Всего страниц і

е





3 Общие положения 3

  1. Технологические требования 4

  2. Технические требования к технологичес­кому. полю 5

  3. Требования к реперным знакам . ♦. •. 5

  4. Требования к фиксирующим отверстиям .. 6

Приложение А Расчет определяющего геометрического ■параметра фотошаблона заготовки ПП .. 7

Приложение^ Выбор системы базирования ПП 10


? ■ - J ’ ■. ' ■' ‘‘ ■'?>«

ОТРАСЛЕВОЙ СТАНДАРТ

І * / .

. , ■ . ПЛАТЫ ПЕЧАТНЫЕ; ■ •.’

Общие требования ж элементам "... '



2-ЦЕ

■ систем базирования .. ‘' OCT 92-4448-84 "Плати печатные многослойные с открытыми пло­щадками. Базовая конструкция и размеры"»

ОСТ 92-5031-87 "Отраслевая система обеспечения технологичнос­ти изделий приборостроения. Общие требования к технологичности констркуции печатных плат";

. ОСТ 92-5074-97 "Платы печатные. Общие требования к типовым технологическим процессам изготовления";-

ОСТ 92-5075-99 "Платы печатные. Типовые технологические про­цессы получения проводящего рисунка";

ОСТ 92-5076-99 "Платы печатные» Типовые технологические про­цессы оплавления"?

ОСТ 92-5077-99 "Платы печатные» Типовые технологические про­цессы химической подготовки и предварительного меднения отверстий";

ОСТ 92-5078-99 "Платы печатные. Типовые технологические про­цессы электрохимического педучения металлических покрытий";

ОСТ 92-5079-99 "Платы печатные многослойные. Типовые техноло­гические процессы прессования";

ОСТ 92-5080-99 "Платы печатные. Типовые технологические про­цессы механической обработки";

ОСТ 92-9553-82 "Оригиналы и фотошаблоны печатных плат. Тех­нические требования";


О

2

СТ 4.054.008 "Оригиналы и фотошаблоны печатных плат. Типовые технологические процессы;

' : ТУ6-І7-703-85 "Фотопластины с фиксирующими отверстиями. Тех­нические условия";

ТУ6-І7-789-76 "Пленка фотохимическая Ж-41Й» лйхкические ус­ловия"; ■ ’

ТУ6-І7-І247-83 "Пленка фотохимическая ФТ-ІЖ Технические ус­ловия";

ТУ6-І7-І287-84 "Пленка фототехническая типа "Диакорт". Техни- , і■ . г

- І1 ' I ■ ' ■ » ■ ' *

' ческио условия";

✓ ' ТУ 21-0284461-058-90 "Стекло, для фотографических пленок.

Технические условия". - ' Л. • '

» ' і ‘ .

3 Общие положения

  1. Общие требования к ПП - по ГОСТ 23752. ,. ’ - -

  2. Основные.параметры конструкции ПП по ГОСТ 23751 и ■ .

ОСТ 92*4448. '. ' ; .' " ' . Л'-'-Л л : «'

' ЗіЗ Форма :ПП и -соотношение -линейных размеров сторон по.

ОСТ 92-5031. . *

3.4 Наибольший габаритный размер ПП - 500x600 мм.

При размере сторон ПП менее 100 мм применяют групповые методы обработки. • .

3J5 Системы базирования ПП всех, типов должны.состоять из сле­дующих элементов: ' . . .. .. . '

‘ - *-‘реперных знаков; • • t .. • , . ... , # .

- фиксирующих отверстий, расположенных на технологическом по- ле - части заготовки ПП, служащей для размещения-элементов, обеспе­чивающих выполнение всех технологических и контрольных операций, удаляемой после .изготовления ШЕ ‘ ’

3.6 Максимально допустимую величину суммарной погрешности сов­мещения (Сп) оценивают по формуле:

Сп « (^М.ОТВ. * 2з + . (I)

где 27- диаметр контактных площадок с учетом наименьшего предельного отклонения;-

. о[м.отв.- диаметр сверления отверстий'под металлизафю с уче­том наибольшего предельного отклонения;

  1. в - допустимый гарантийный поясок охвата отверстий кон- ' тактной площадкой по ГОСТ 23751;

-/} ф * толщина фольги.. . ;ост 92-51(5-2000

. _ . ■ ' " ' • ;:ї ■ ' ; '' ;

  1. Технологические требования - *

    1. Изготовление односторонних и двусторонних ПП - по

ОСТ 92-5074-ОСТ 92-5078 и ОСТ .92-5080,

  1. Изготовление многослойных ПП - по ОСТ 92-5074-ОСТ 92-5080.

  2. Технические требования к фотошаблонам - по ОСТ 92-9553, изготовление фотошаблонов -* по ОСТ. 4,054.008*

  3. Фиксирующие отверстия следует, пробивать или сверлить.

Выбор метода выполнения фиксирующих отверстий в зависимости от типа производства ПП - по ГОСТ 23662.

  1. При выполнении фиксирующих отверстий в заготовках печат-

© ► с Ct

X


с U3

ч

2

« Z X


2



ных плат рекомендуется следующий порядок операций:

  • выполнение фиксирующих отверстий;

  • очистка отверстий от пыли и стружки;

  • контроль размеров отверстий g

  • проверка расстояний между отверстая»*.

  1. Фиксирующие’отверстж £ эагадовках одно- и двусторонних ПП, а также в слоях -многослойных ЛЕ выполнят’ после термоетабилиза- . ции. Количество циклов з режимы обработки - ш ОСТ 32-5080=

  2. Фотоматериалы выбирают .исходя из класса точности ПП и значения определяющего геометрического параметра. !

Расчет определяющего геометрического параметра приведен в приложении А. .

  1. Фотошаблоны должны изготавливаться на фотопластинах типа "Микрат НК" по ТУ 21-0284461-058; фотохимической пленке типа "Диаконт" по ТУ 6-I7-I287 или ФГ-4ІП по ТУ 6-І7-7Є9, ФГ-ШП по ТУ 6-I7-I247 или имперткой пленке OL или ОСЕ.

Допускается использовать фотопластины с фиксирующими отверс­тиями по ТУ 6-17-703, размеры фотопластин приведены в приложении В..

■ ■■■ ■ ■'

: - . г - ■ 4

I *




АЛ


а. 2 ие-4

S г* па

X X


В технически обоснованных случаях допускается уменьшение раз­мера фотопластины путем обрезки. Обрезку фотошаблона производить с одной или двух сторон не менее, чем на 40 мм.,

    1. Выбор системы базирования ПП производят в соответствии с приложением Б. ' ■' • ■ •

  1. Технические требования к технологическому полю ’ - •

. 5.1. Ширина.телнологического поля ПП, определяемая технологией: изготовления, должна быть не более'30 мм.- Увеличение ширины технологического поля допускается в техни­чески обоснованных случаях. .

б. Требования к реперным знакам , » .

' 6.1 На фотошаблоне (слое) должны быть печатные элементы совме­щения - реперные знаки, обеспечивающие бриентирование^н. лробивде фиксирующих отверстий или приклейке штифтов. ’ * , ■

  1. Рекомендуемая конфигурация 'реперных знаков фотошаблона


приведена на рисунке I . .

6.3 Рекомендуемая конфигурация реперных знаков визирной систе­мы приведена на рисунках '2,3.



  1. Предельные отклонения расстояний между реперными знаками в комплекте фотошаблонов -0,016 мм - для стеклянных фотошаблонов н І0.07 мм для пленочных фотошаблонов. - . *>

7 Требования к фиксирующим отверстиям

7 Л Для точного расположения заготовок, печатных плат в процес­се обработки на них следует выполнить.фиксирующие отверстия.

7.2 Правильность установки заготовки на выбранном оборудова­нии, технологической оснастке к при совмещении с фотошаблоном долж­на обеспечиваться одним из следующих способов:

- несимметричным расположением фиксирующих отверстий;

* — — $

-

j Инв. № пбдл, Подл, и дата ' Взам. ина. № Инв, № дубл. Подл, и дата

'I Г

использованием фиксирующих отверстий различного диаметра;

.- использованием ориентирующего знака (отверстия).

  1. Предельные отклонения расстояний между центрами фиксирующих отверстий систем, базирования - в соответствии с приложением В.

  2. Рекомендуемый диаметр фиксирующего отверстия должен быть 3 или 4,6 мм.. .. .

  3. Предельное отклонение диаметров' фиксирующих отверстий:

  • HIX - для печатных плат 1-2 класса точности;

  • Н9 - для печатных плат 3 класса.точности;.

  • Н7 - для печатных плат-445 масса точности^

'• 7.6 Для фиксирования заготовок ПИ 345 класса точности е габа­ритами более 150 х 150 ми рекомеццуется использовать пазы.




К

Рисунок 4

онфигурация лаза показана на рисунке 4.OCT 92-5105-2000

'Приложение А ' ..

(справочное)

Расчет определяющего геометрического параметра
фотошаблона и заготовки ПП

A.I Определяющий геометрический .параметр фотошаблона и заготовки М расчитывают по формуле:

где Вп~ гарантийный поясок контактной площадки;

В - гарантийный поясок контактной площадки; •

Kj *• коэффициент, определяющий суммарную величину пог­решностей, обусловленных погрешностью выполнения фиксирующих отвер­стий или приклейкой* штырей на фотошаблоне, погрешностью выполнения рисунка/и получения отверстий на заготовке;

ч X е ч &

/ Kg - безразмерный коэффициент, обусловленный деформацией подложки рабочего фотошаблона при изменении влажности в пределах ЦО % пои изменении, температуры в пределах-.ІІ0 °С.

Г * . * * 4

З

5

ОІ

начение коэффициентов Kj и ’Kg приведены'в таблице A.I, Таблица А, Г

Wor.MMA-* t "? &/

I

sc


Материал рабочего фотошаблона

К j, ш

--К2

Фототехническая.пленка на триаце­татной основе

0,17

32’Ю-4

Фототехническая пленка на полиэти­лентерефталатной основе

0,17 '

14,7-Ю"4

Диазопленка "Диаконт"

0,17

13,4-I0"4

Импортная фототехническая пленка > на полиэфирной основе толщиной 0,17 мм

*•

0,15

* <

6,4* W24

Tf 4 .

1

»

і ч

< -



АЛ



' Окончание таблицы A.I

Материал рабочего фотошаблона '

Kj, мм

.И.., „г,,,.,

К2 ...

* • ' і > W • » t, t

_Фотопластина с фиксирующими отверсти­ями или с проклеенными штырями

0,11

І'ІО"4

Примечание - Значение гарантийного пояска контактной площад- в зависимости от класса точности ПП приведены в ГОСТ 23751

,,, ■■■— ■ ■ --Д. , .... ,

І



Значение определяющего геометрического параметра равно рассто­янию от середены отрезка, соединяющего центры фиксирующих отверстий, до максимально удаленного элемента рисунка печатной платы, разме­щенного на данном фотошаблоне в соответствии с рисунком А.І.

А .2 Зависимость определяющего геометрического параметра от величины номинального гарантийного пояска для S - 0,05 приведена на рисунке А.2.

Копировал ЪЪЗ6/ Формат А4





  1. - для фотопластины с фиксирующими отверстиями;

  2. *• для импортной фототехнической пленки;

  3. - для пленки ’’Диаконт1';

  4. - для фототехнической пленки на полиэтилентерефталат- ' ной основе;

  5. - для фототехнической пленки на триацетатной основе.

Рисунок А. 2


x l


Ф. 2 ЦЕ-4


Копирелал ъ Ltffa* 2*^ S


Форме’ А4


Приложение В ‘ .

- .* (рекомендуемое) . . L

*

' Выбор системы базирования ПП

*

Б.І Выбор систем базирования производят в соответствии с таб­лицей В.Ї

10


J

-Таблица В. I.

Номер рисунка системы базирования ‘

Фотоматериал

Класс точности ПП по ГОСТ 23751

БД

Б.2 Б.З

' Пленочный

Пленочный

Фотопластины с фиксирующими от­верстиями

1-3 .

1-5 •

1-5

*



Ина, N2 подл» Подл, и дата Взам,инв. № Инв.КЗдубл. Подл. и дата ■ ■ I

Имэ. поХл.

Пода, и дата

Бзам. ина.

Ине. № ду6л.

Подп. и дата




* t

OCT 92-6105-21


































Ин». № подл.


Подп. и дата | Взам. мм». №


Инв. Ng дубл.


Подп. м дата


2,3 <* Форм*»' М